內外資研發機構購國產設備退還增值稅
發布時間：2014-02-26 共1頁
國家稅務總局10月30日公布有關通知稱，為了鼓勵科學研究和技術開發，促進科技進步，經國務院批準，對外資研發中心進口科技開發用品免征進口稅收，對內外資研發機構采購國產設備全額退還增值稅。
對2009年9月30日及其之前設立的外資研發中心，應滿足以下條件：成立不足兩年的，作為獨立法人，其投資總額不低于500萬美元，作為公司內設部門或分公司的，其研發總投入也不低于500萬美元；但設立兩年及以上的外資研發中心，企業研發經費年支出額應不低于l000萬元。此外，還需滿足專職研究與試驗發展人員不低于90人，設立以來累計購置的設備原值不低于1000萬元。
對2009年10月1日及其之后設立的外資研發中心，作為獨立法人的，其投資總額不低于800萬美元；作為公司內設部門或分公司的，其研發總投入不低于800萬美元。此外，專職研究與試驗發展人員不低于150人。設立以來累計購置的設備原值不低于2000萬元。
附件1：
《財政部海關總署國家稅務總局關于研發機構采購設備稅收政策的通知》（財稅[2009]115號）
各省、自治區、直轄市、計劃單列市財政廳(局)、國家稅務局，新疆生產建設兵團財務局，海關總署廣東分署、各直屬海關：
為了鼓勵科學研究和技術開發，促進科技進步，經國務院批準，對外資研發中心進口科技開發用品免征進口稅收，對內外資研發機構采購國產設備全額退還增值稅。現將有關事項具體明確如下：
一、外資研發中心適用《科技開發用品免征進口稅收暫行規定》(財政部、海關總署、國家稅務總局令第44號)免征進口稅收，根據其設立時間，應分別滿足下列條件：
(一)對2009年9月30日及其之前設立的外資研發中心，應同時滿足下列條件：
1．研發費用標準：(1)對新設立不足兩年的外資研發中心，作為獨立法人的，其投資總額不低于500萬美元；作為公司內設部門或分公司的，其研發總投入不低于500萬美元；(2)對設立兩年及以上的外資研發中心，企業研發經費年支出額不低于l000萬元。
2．專職研究與試驗發展人員不低于90人。
3．設立以來累計購置的設備原值不低于1000萬元。
(二)對2009年10月1日及其之后設立的外資研發中心，應同時滿足下列條件：
1．研發費用標準：作為獨立法人的，其投資總額不低于800萬美元；作為公司內設部門或分公司的，其研發總投入不低于800萬美元。
2．專職研究與試驗發展人員不低于150人。
3．設立以來累計購置的設備原值不低于2000萬元。
具體審核辦法由商務部會同財政部、海關總署、國家稅務總局另行制定。
二、適用采購國產設備全額退還增值稅政策的內外資研發機構包括：
(一)《科技開發用品免征進口稅收暫行規定》(財政部、海關總署、國家稅務總局令第44號)規定的科學研究、技術開發機構。
(二)《科學研究和教學用品免征進口稅收規定》(財政部、海關總署、國家稅務總局令第45號)規定的科學研究機構和學校。
(三)符合本通知第一條規定條件的外資研發中心。
具體退稅管理辦法由國家稅務總局會同財政部另行制定。
三、本通知所述設備，是指本通知附件所列的為科學研究、教學和科技開發提供必要條件的實驗設備、裝置和器械。’
四、本通知執行期限為2009年7月1日至2010年12月31日。
財政部海關總署國家稅務總局
二00九年十月十日
附件2：
科技開發、科學研究和教學設備清單
為科學研究、教學和科技開發提供必要條件的實驗設備、裝置和器械(不包括中試設備)，具體包括以下三類：
一、實驗環境方面
(一)教學實驗儀器及裝置；
(二)教學示教、演示儀器及裝置；
(三)超凈設備(如換氣、滅菌、純水、凈化設備等)；
(四)特殊實驗環境設備(如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強腐蝕設備等)；
(五)特殊電源、光源(如電極、開關、線圈、各種光源等)；
(六)清洗循環設備；
(七)恒溫設備(如水浴、恒溫箱、滅菌儀等)；
(八)小型粉碎、研磨制備設備。
二、樣品制備設備和裝置
(一)特種泵類(如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動泵、蝸輪泵、干泵等)；
(二)培養設備(如培養箱、發酵罐等)；
(三)微量取樣設備(如移液管、取樣器、精密天平等)；
(四)分離、純化、濃縮設備(如離心機、層析、色譜、萃取、結晶設備、旋轉蒸發器等)；
(五)氣體、液體、固體混合設備(如旋渦混合器等)：
(六)制氣設備、氣體壓縮設備：
(七)專用制樣設備(如切片機、壓片機、鍍膜機、減薄儀、拋光機等)，實驗用注射、擠出、造粒、膜壓設備：實驗室樣品前處理設備；
(八)實驗室專用小器具(如分配器、量具、循環器、清洗器、工具等)。
三、實驗室專用設備
(一)特殊照相和攝影設備(如水下、高空、高溫、低溫等)；
(二)科研飛機、船舶用關鍵設備和部件：
(三)特種數據記錄設備及材料(如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機、光盤機等)：
(四)特殊電子部件(如電路板、特種晶體管、專用集成電路等)：
(五)材料科學專用設備(如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉換設備、制版用于板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴散爐、濺射儀、離子刻蝕機，材料實驗機等)，可靠性試驗設備，微電子加工設備，通信模擬仿真設備，通信環境試驗設備；
(六)小型熔煉設備(如真空、粉末、電渣等)，特殊焊接設備；
(七)小型染整、紡絲試驗專用設備；
(八)電生理設備。
